氨逃逸監測系統的技術對比與優勢
發布時間：2020-04-26
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氨逃逸監測系統的技術對比與優勢
宜先氨逃逸在線監測系統采用QCL + TDLAS技術，目標譜線是氨分子在中紅外波段強吸收峰。分子光譜學研究表明，氨分子中紅外吸收譜線比近紅 外吸收譜線強數十倍，在同樣測量條件下，檢測精度可達ppb級別，是 近紅外TDLAS數十倍。氨逃逸系統采用新型的半導體QCL作為激光源， 結合穩定可靠的光路設計及信號處理技術，使TDLAS光學傳感技術 達到前所未有的精度和穩定性，解決了近紅外氨表穩定性差、精度不高 的現狀，可以充分滿足市場需求。
技術對比優勢
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技術對比 |
宜先儀器
QCL-TDLAS |
近紅外抽取式
TDLAS |
原位式TDLAS |
紫外差分DOAS
（間接測量） |
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環境適應性 |
適應高溫、高壓、
高濕、高粉塵 |
水分及其它雜
質有較大影響 |
無法長時間適應脫硝惡 劣工況條件，受現場振 動、熱膨脹等影響嚴重 |
無法適應高溫的脫 硝現場惡劣工況 |
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介質干擾 |
不受背景氣體、粉 塵及光學視窗污 染干擾 |
易受背景水汽
干擾 |
易受粉塵干擾 |
易受背景氣體干擾 |
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檢測靈敏度 |
0.01 ppm |
1ppm |
1ppm |
10ppm (NOx) |
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可靠性 |
損耗部件成本較 低，光路穩定，可 靠性高 |
需要長測量光 程，光路不穩 定，精密光學 池易損，可靠 性低 |
粉塵、煙道震動對數據穩 定性有較大影響,數據穩 定性差 |
通過測量NOx推 算NH3濃度，屬間 接測量，數據不可 靠 |
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維護及標定 |
維護方便，標定
1~2次/年 |
維護方便，標
定1~2次/年 |
無法在線校準，窗鏡易污
染，需定期對光 |
維護方便，標定
1~2次/年 |
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耗材 |
低成本耗材，壽命 長 |
貴重光學池及 鏡片易損 |
鏡片易受污染 |
耗材成本較低 |
